전자빔 스퍼터와 이온빔 스퍼터의 차이점 알려주세요

아래의 내용을 참고하시기 바랍니다.

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1. 전자빔 스퍼터

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고에너지 전자빔을 사용하여 타겟의 원자를 이온화시킵니다.

이온 에너지가 낮아 타겟 손상이 적고, 이온빔 스퍼터보다 증착 속도가 빠릅니다.

대부분의 금속, 절연체, 반도체를 증착할 수 있습니다.

장비가 비교적 저렴하고 구조가 단순합니다.

적용 분야 : 반도체 소자, 광학 소자, MEMS 등

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2. 이온빔 스퍼터

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고에너지 이온빔을 타겟에 충돌시켜 타겟의 원자를 뜯어냅니다.

이온 에너지가 높아 타겟 손상이 큰 대신, 밀착력이 높은 박막을 형성할 수 있습니다.

전자빔 스퍼터로 증착하기 어려운 고용융점 물질도 증착할 수 있습니다.

장비가 비싸고 구조가 복잡하며, 플라즈마로 인해 장비 손상이 발생할 수 있습니다.

적용 분야 : 하드 코팅, 절연막, 고온 초전 박막 등