광전자증배관

요약 주로 가시광선을 검출하는 진공관으로 2차전자의 방출을 이용하여 미소한 광전자의 전자류를 증폭하는데에 쓰인다. 트랜지스터나 진공관을 이용할 때보다 훨씬 잡음이 적으므로 미약한 빛을 검출할 때 쓰인다.

전자를 고체표면에 충돌시키면 충돌한 전자 자체의 반사 외에 충돌한 전자로부터 고체 내의 전자에 에너지가 주어져 새로 고체 내의 전자가 표면으로부터 튀어나오는 현상을 2차전자방출이라고 하는데, 이 현상을 이용해서 미소한 광전자류를 증폭하는 전자관이다. 2차전자증배관이라고도 한다.

구조는 빛을 쬐면 전자(광전자)를 방출하는 광전면과, Cs-Sb ·Cs-CsO-Ag ·MgO와 같은 2차전자방출의 효율이 좋은 물질을 하나의 진공관에 넣은 것인데, 광전면에서 나온 광전자는 광전관처럼 직접 양극으로 가지 않고, 그림의 화살표처럼 차례로 1에서부터 9까지의 2차전자 방출물질(다이노드)에 닿아 증배되고, 최초의 광전면에서 발생한 전자는 전체에서 10⁶배 정도로 증폭되어서 양극에서 출력으로서 빼내어진다.

이 방법은 광전관의 출력을 트랜지스터 또는 진공관 증폭기로 증폭하는 경우에 비해 훨씬 잡음이 적은 출력이 얻어지므로, 미약한 빛을 검출하는 데 적합하다. 텔레비전의 슬라이드나 필름의 송상(送像)에 사용하는 플라잉 스폿 카메라, 분광광도계, 기타 공업용 측정장치에 널리 사용되고 있다.