고압산화방식

요약 암모니아의 산화와 생성된 일산화질소를 흡수하는 공정의 일부 또는 전부를 가압하에서 하는 질산 제조방식으로, 백금·백금-로듐 Pt·Pt-Rh l0% 촉매를 사용한 뒤퐁식·폴링식·아이지식 등이 있다.

백금·백금-로듐 Pt·Pt-Rh l0% 촉매를 사용한 뒤퐁식(60∼65% 질산, 공기산화만 8atm)·폴링식(60∼65% 질산, 공기산화 3atm, 흡수 2.5atm)·아이지식(IG式:60% 질산, 공기+산소혼합가스 산화 5atm, 흡수 4atm) 등이 있다.

NH₃을 상압(常壓)에서 산화·냉각하여 NO 산화흡수만을 4atm에서 하는 반고압식(Fauser법)도 있다. 산화 후의 가스를 냉각하고, 반응 중에 생성된 수증기와 산소에 미리 섞은 수증기를 응축시키면 NO₂의 일부가 녹아서 약 62% HNO₃이 생긴다.

다시 10℃로 냉각하여 기체상태인 NO₂를 액화하고, 이 62% HNO₃과 액체 NO₂를 오토클레이브에 넣은 다음 산소를 첨가하여 50atm에서 응고시키면, 직접 98% HNO₃이 된다. 이와 같은 것을 진한 질산의 직접합성법이라고 한다.