wafer Qna 관련 답변 2 페이지

반도체 용어 관련 문의

안녕하세요. 반도체 제조 공정 중에 Mask Revision이라는 것이 어떤 작업인지 알고 싶습니다. 고수님의 도움을 기다리겠습니다. 감사합니다. Mask 라는 것은 회로를...

태그: wafer, mask, 반도체공정

국내 Glass wafer Etching하여...

국내 Glass wafer를 Etching하여 단차만드는 업체가 있을까요? https://www.koreascience.or.kr/article/JAKO200211921001021.pdf https://slidesplayer.org...

태그: Glass, wafer, Etching, 가공

wafer 격자 방향과 wet etch에 대해서...

... si wafer는 격자 방향이 (100), (110), (111)이 있는걸로... 1번 질문에서 말하는 wafer의 격자 방향은 표면만을... 헌데 100 wafer를 wet etch 하면 내부에서 갑자기 (111) 면이...

태그: 반도체, wafer, etching, 에칭, wetech, 습식에칭, 반도체공정

SF6를 포함하는 플라즈마 에칭 후...

... 설명을 듣기로는 Wafer Back side (실리콘 표면)에 플라즈마 에칭이 진행되면서... 현재는 Wafer Back side 표면에 아래 조건으로 Plasma etching이 진행되면서 활성화된 O2가...

태그: 화학반응식, 플라즈마, 에칭, 에칭가스, sf6가스, wafer, 산화막

포토공정에서 scanner 장비에서 wafer...

... 전공정중에 포토공정에서 scanner장비 사용할때 wafer랑 mask가 반대방향으로 이동하면서 현상하는데 그 이유가 뭔가요? 반대방향으로 이동하는 이유요! scanner에 slit이...

태그: 반도체공정, 반도체, 포토공정, 포토스캐너, wafer, mask, photolithography, 반도체공학, 반도체포토에칭

반도체 공정 시 wafer backside에 Ar...

반도체 PECVD, Dry Etch, Sputtering 공정 시 chuck에 홈을 내고 wafer backside에 Ar gas를 flow해주는 이유가 무었인가요? substrate의 슬라이딩 방지?...

태그: 반도체공정, wafer, chuck

이있습니다. (터널링 소자와 wafer의 배향)

... 첫번째 질문은, wafer를 만들어서 channel을 형성할 때, 100 방향과 111방향에 대해 threshold voltage에 차이가 생길 수 있는지와 그 원인이 궁금하구요 두번째...

태그: 반도체공학, TFET, wafer, 반도체, 반도체장비, 반도체소자, 나노소자

CMOS공정에 글라스웨이퍼가 부적절한 이유

CMOS공정에 글라스웨이퍼가 부적절한 이유가 뭔가요?

태그: CMOS, wafer

반도체 다결정/단결정 질문

... 보통 반도체에 쓰이는 wafer는 단결정으로 제조한다고 알고 있습니다. 왜 저기에 poly가 있는지 쓰이는 지 알 수 있을까요????? 실리콘이 웨이퍼로 쓰이기 위해...

태그: 반도체, wafer, 다결정, 단결정, 실리콘, silicon, 문제풀이

반도체 wafer doping 할때

반도체 wafer doping 할때 N- , N+ 가 무슨뜻인가요? N type은 아는데 - 와 +의 의미가 농도인가요? N- = doping 농도가 작다. N+ = doping 농도가 크다.

태그: 반도체, 공정, wafer

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