sputtering Qna 관련 답변 1 페이지

알파스텝으로 측정위치 1 : 180.63 2: 181.32 3: 182.74 4: 183.34 5: 181.25 6: 180.75 7: 181.45 8: 184.92 9: 180.56 10: 181.94 박막을 증착시켜 알파스텝으로 값을 얻었는데...

스퍼터링 공정변수가스 유량을 제외하고 통일 시킨 상태에서 Ar 20sccm고정 O2 만 2 4 6 증가시켰을 때 deposition rate 와 저항은 증가하지않나요??

반응성 RF magnetron sputter로 TaN을 증착하는 주제로 관련 논문을 조사하고 있는 대학생입니다. target power density를 변수로 하여 증착속도 및 증착된 박막의...

silicon substrate위에 박막을 증착했을때 공정조건을 달리하면 결정성을 조절할수 있다고 알고있습니다 그런데 여기서 결정성이 발달했다고 하는데 이게 무슨뜻인지...

... DC Sputtering 에 관해 질문이 있어 올립니다.. 1. Sputter의 경우. Target Cathode... (Current & Voltage 관점에서..) 반도체 Sputtering에 관해 좋은 자료.. (논문, 책...

반도체 박막 증착 공정에서 스퍼터링이 잘 되기 위한 조건을 알려주세요!! 조건이 많을 수록 좋아요ㅠㅜㅠ 부탁드립니다

Oxide Sputtering과 Metal Sputtering은 Target이 전도성 유무에 따라서 달라지나요... 혹시 그렇다면 일반적인 DC,RF Sputtering과 Reactive Sputtering과의 차이인가요? 타겟이...

혹시 Oxide Sputtering과 Metal Sputtering 차이가 정확히 무엇인가용? Target의 차이인가요 ? Target 차이라면 Target 제조 방법에 차이가 있는 것인지 아니면 전도성...

궁금합니다. 건식 식각에 대해 찾아보는데 sputtering 과정도 포함되나요? sputtering은 식각이 아니기 때문에 아닌가요?.. 뒤죽박죽이네요 ㅠㅠ

Sputtering 과정이 왜 필요하고, 어떻게 일어나는 건지 알고 싶습니다. 사진과 함께 설명해주시면 감사합니다. 안녕하세요 반도체에서 증착은 매우...